高温アニール装置
（真空タイプ／加圧真空タイプ）
■特長
本装置は真空、加圧、共に使用可能なアニーリング装置で、特にカセットに狭いピッチで並べられたガラス基板のようなものは良い温度分布が得られます。
また 降温時は熟成温度の均一化が図れます。
■仕様
| タイプ | 型式 | 真空/圧力 | 温度 | 雰囲気 | 有効径×奥行 |
|---|---|---|---|---|---|
| 真空 | VA-6550H | 20Pa～大気圧 | RT～450℃ | AIR N2 Ar | φ550×550 |
| VA-85700H | φ750×750 | ||||
| VA-110100H | φ1000×1000 | ||||
| VA-130120H | φ1200×1200 | ||||
| 加圧真空 | HPVA-6550H | 1.3Pa～0.5MPa | RT～500℃ | φ550×550 | |
| HPVA-85700H | φ750×750 | ||||
| HPVA-110100H | φ1000×1000 | ||||
| HPVA-130120H | φ1200×1200 |