高圧アニール装置

■特長

低温ポリシリコンTFT液晶に使われているポリシリコンの上に、シリコン酸化膜を生成させる装置です。
ガラスの融点以下の低温の水蒸気によって加圧することにより、酸素とシリコンを結合させます。
石英ガラスの採用により、金属イオンの影響を排除します。

高圧アニール装置

■仕様

型式 有効径 有効高さ 石英チャンバー 外チャンバー 温度 圧力
φmm mm 内径φmm 内径φmm ℃ MPa(G)
VPA-360 340 250 360 760 室温 ～800 大気圧 ～3
VPA-550 530 300 550 950
VPA-700 670 400 700 1100
VPA-1000 980 600 1000 1400
VPA-1200 1180 800 1200 1600
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