酸化‐H2還元炉
ステンレス表面に不動態膜を生成する為の装置
■特長
■使用流体
不活性ガス（窒素ガス、アルゴンガス）、空気、酸素混合不活性ガス、水素あるいは水素混合不活性ガス（酸素混合不活性ガスの酸素濃度はMax.50wt％）
■操作パターン
ワーク挿填、真空ガス置換、混合ガス導入、昇温、温度維持、強制冷却、真空引きガス置換、Ｈ2ガス導入、昇温、高温維持、強制冷却、真空引きガス置換、混合ガス導入、ワーク取出の繰り返し
昇温速度 100℃/30min.
■仕様
| 型式 | OF-621 | OF-950 |
|---|---|---|
| チャンバー寸法 | φ600×L2100mm | φ900×L5500mm |
| ワーク寸法 W×H×D | 350×350×1800 | 550×550×4300 |
| 炉内挿填物 | ステンレス鋼品 | |
| 真空／圧力 | 1Pa／0.3MPa(G) | |
| 温度 | 室温～500℃MAX | |
| 電源200V3φ | 40kW | 150kW |
| 外形寸法 W×D×H | 1900×3000×2000 | 2300×6500×2000 |