酸化‐H2還元炉

ステンレス表面に不動態膜を生成する為の装置

    

特長

■使用流体
不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガス)、空気、酸素混合不活性ガス、水素あるいは水素混合不活性ガス(酸素混合不活性ガスの酸素濃度はMax.50wt%)

■操作パターン
ワーク挿填、真空ガス置換、混合ガス導入、昇温、温度維持、強制冷却、真空引きガス置換、H2ガス導入、昇温、高温維持、強制冷却、真空引きガス置換、混合ガス導入、ワーク取出の繰り返し

昇温速度 100℃/30min.

仕様

型式 OF-621 OF-950
チャンバー寸法 φ600×L2100mm φ900×L5500mm
ワーク寸法 W×H×D 350×350×1800 550×550×4300
炉内挿填物 ステンレス鋼品
真空/圧力 1Pa/0.3MPa(G)
温度 室温~500℃MAX
電源200V3φ 40kw 150kw
外形寸法   W×D×H 1900×3000×2000 2300×6500×2000


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