高温アニール装置(真空タイプ/加圧真空タイプ)

特長

本装置は真空、加圧、共に使用可能なアニーリング装置で、特にカセットに狭いピッチで並べられたガラス基板のようなものは良い温度分布が得られます
また 降温時は熟成温度の均一化が図れます

仕様

タイプ 型式 真空/圧力 温度 雰囲気 有効径×奥行
真空 VA-6550H 20Pa~大気圧 RT~450℃ AIR N2 Ar φ550×550
VA-85700H φ750×750
VA-110100H φ1000×1000
VA-130120H φ1200×1200
加圧真空 HPVA-6550H 1.3Pa~0.5MPa RT~500℃ φ550×550
HPVA-85700H φ750×750
HPVA-110100H φ1000×1000
HPVA-130120H φ1200×1200


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