会社沿革

1982年10月 資本金300万円で設立
1983年 1月 半導体試験装置プレッシャークッカーを発売
1986年12月 西ドイツ連邦安全協会型式認定を取得
1988年11月 株式会社に組織変更・資本金1000万円
1990年10月 300Kg/cm2第一種圧力容器製造認可
1992年2月 高圧燃料供給装置発売
1992年11月 真空加圧ホットプレス発売
1994年10月 液晶注入装置発売
1996年4月 有機物乾留用高温圧力容器発売(800℃,300kgf/cm2)
1996年10月 高圧ガス供給設備発売(450 kgf/cm2)
1997年4月 真空・加熱処理方式および装置に関する特許取得
1998年6月 本社新工場完成
1997年5月 真空高圧室シール手段に関する特許取得
1999年6月 第三者割当増資により資本金4000万円
1999年6月 財団法人埼玉県創造的企業投資育成財団の投資決定
1999年10月 本蓮工場が稼動して生産能力が4倍になる
1999年12月 通産省より特定新規事業法に基づき新規事業認定取得
2000年2月 大蔵省・通産省共管の新規事業投資株式会社等の出資により資本金6500万円
2000年2月 大蔵省・通産省共管の特別認可法人産業基盤整備基金による債務保証決定
2000年3月 第三者割当増資により資本金1億6125万円
2000年10月 本蓮南工場・環境制御技術研究所完成
2001年5月 第三者割当増資により資本金2億2369万円
2002年4月 台湾における顧客開拓のため、台湾事務所を開設
2003年2月 第三者割当増資により資本金3億1824万円
2004年7月 中国ボイラー及び圧力容器製造許可(ML)を取得
2005年7 月 NEDOより「大型ガラス基盤気流搬送装置の実用化開発」が産業技術実用化開発助成事業に採択
2005年11月 関西事業所(三重工場)完成
2005年11月 CEマーキングの認証取得
2006年11月 増資により資本金3億4026万円
2011年10月 減資により資本金1億円


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